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簡(jiǎn)要描述:產(chǎn)品介紹:法國(guó)Phasics SID4系列波前分析儀(上海屹持光電代理),基于其波前測(cè)量——四波橫向剪切干涉技術(shù)(4-Wave Lateral Shearing Interferometry)。作為夏克-哈特曼技術(shù)的改進(jìn)型,這種*的技術(shù)將超高分辨率和超大動(dòng)態(tài)范圍結(jié)合在一起。任何應(yīng)用下,其都能實(shí)現(xiàn)全面、簡(jiǎn)便、快速的測(cè)量。
產(chǎn)品分類
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
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詳細(xì)介紹
法國(guó)PhasicsSID4系列波前分析儀
-----四波橫向剪切干涉波前傳感器
產(chǎn)品介紹:法國(guó)Phasics SID4系列波前分析儀(上海屹持光電代理),基于其波前測(cè)量——四波橫向剪切干涉技術(shù)(4-Wave Lateral Shearing Interferometry)。作為夏克-哈特曼技術(shù)的改進(jìn)型,這種*的技術(shù)將超高分辨率和超大動(dòng)態(tài)范圍結(jié)合在一起。任何應(yīng)用下,其都能實(shí)現(xiàn)全面、簡(jiǎn)便、快速的測(cè)量。
主要應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 激光光束參數(shù)測(cè)量:相位(2D/3D),M2,束腰位置,直徑,澤尼克/勒讓德系數(shù)
2. 自適應(yīng)光學(xué):焦斑優(yōu)化,光束整形
3. 元器件表面質(zhì)量分析:表面質(zhì)量(RMS,PtV,WFE),曲率半徑
4. 光學(xué)系統(tǒng)質(zhì)量分析:MTF, PSF, EFL, 澤尼克系數(shù), 光學(xué)鏡頭/系統(tǒng)質(zhì)量控制
5. 熱成像分析,等離子體特征分析
6. 生物應(yīng)用:蛋白質(zhì)等組織定量相位成像
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 高分辨率:zui多采樣點(diǎn)可達(dá)120000個(gè)
2. 可直接測(cè)量:消色差設(shè)計(jì),測(cè)量前無需再次對(duì)波長(zhǎng)校準(zhǔn)
3. 消色差:干涉和衍射對(duì)波長(zhǎng)相消
4. 高動(dòng)態(tài)范圍:高達(dá)500μm
5. 防震設(shè)計(jì),內(nèi)部光柵橫向剪切干涉,對(duì)實(shí)驗(yàn)條件要求簡(jiǎn)單,無需隔震平臺(tái)也可測(cè)試
型號(hào)參數(shù):
型號(hào) | SID4 | SID4-HR | SID4-DWIR | SID4-SWIR | SID4-NIR | SID4-UV |
孔徑mm | 3.6 × 4.8 | 8.9 × 11.8 | 13.44 × 10.08 | 9.6 × 7.68 | 3.6 × 4.8 | 7.4 × 7.4 |
分辨率μm | 29.6 | 29.6 | 68 | 120 µ | 29.6 | 29.6 |
采樣點(diǎn) | 160 × 120 | 400 × 300 | 160 × 120 | 80 × 64 | 160 × 120 | 250 × 250 |
波長(zhǎng) | 400 -1100 nm | 400 - 1100 nm | 3 ~ 5 µm , 8 ~ 14 µm | 0.9 ~ 1.7 µm | 1.5 ~ 1.6 µm | 250 ~ 450 nm |
動(dòng)態(tài)范圍 | > 100 µm | > 500 µm | N/A | ~ 100 µm | > 100 µm | > 200 µm |
精度 | 10 nm RMS | 15 nm RMS | 75 nm RMS | 10 nm RMS | > 15 nm RMS | 20 nm RMS |
靈敏度 | < 2 nm RMS | < 2 nm RMS | < 25 nm RMS | <3/1nm RMS | < 11 nm RMS | 2 nm RMS |
采樣頻率 | > 100 fps | > 10 fps | > 50 fps | 25-60 fps | 60 fps | 30 fps |
處理頻率 | 10 Hz | 3 Hz | 20 Hz | > 10 Hz | 10 Hz | > 2 Hz |
尺寸mm | 54 × 46 × 75.3 | 54 × 46 × 79 | 85 × 116 × 179 | 50 × 50 × 90 | 44 × 33 × 57.5 | 53 × 63 × 83 |
重量 | 250 g | 250 g | 1.6 kg | 300 g | 250 g | 450 g |
四波橫向剪切干涉技術(shù)背景介紹
Phasics四波橫向剪切干涉(上海屹持光電代理):當(dāng)待測(cè)波前經(jīng)過波前分析儀時(shí),光波通過特制光柵(圖1)后得到一個(gè)與其自身有一定橫向位移的復(fù)制光束,此復(fù)制光波與待測(cè)光波發(fā)生干涉,形成橫向剪切干涉,兩者重合部位出現(xiàn)干涉條紋(圖2)。被測(cè)波前可能為平面波或者匯聚波,對(duì)于平面橫向剪切干涉,為被測(cè)波前在其自身平面內(nèi)發(fā)生微小位移發(fā)生微小位移產(chǎn)生一個(gè)復(fù)制光波;而對(duì)于匯聚橫向剪切干涉,復(fù)制光波由匯聚波繞其曲率中心轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生。干涉條紋中包含有原始波前的差分信息,通過特定的分析和定量計(jì)算梳理(反傅里葉變換)可以再現(xiàn)原始波前(圖3)。
圖1.特制光柵 圖2.幾何光學(xué)描述波前畸變
圖3. 波前相位重構(gòu)示意圖
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1. 高采樣點(diǎn):
高達(dá)400*300個(gè)采樣點(diǎn),具備強(qiáng)大的局部畸變測(cè)試能力,降低測(cè)量不準(zhǔn)確性和噪聲;同時(shí)得到高精度強(qiáng)度分布圖。
2. 消色差:
干涉和衍射相結(jié)合抵消了波長(zhǎng)因子,干涉條紋間距與光柵間距*相等。適應(yīng)于不多波長(zhǎng)光學(xué)測(cè)量且不需要重復(fù)校準(zhǔn),
3. 可直接測(cè)量高動(dòng)態(tài)范圍波前:
可見光波段可達(dá)500μm的高動(dòng)態(tài)范圍;可測(cè)試離焦量,大相差,非球面和復(fù)曲面等測(cè)。
圖4.測(cè)試對(duì)比圖 圖5. 消色差 圖6.高動(dòng)態(tài)范圍測(cè)量
應(yīng)用方向:
1. 激光光束測(cè)量
可以實(shí)時(shí)測(cè)量強(qiáng)度相位(2D/3D)信息,Zernike/Legendre系數(shù),遠(yuǎn)場(chǎng),光束參數(shù),光束形狀M2等。
2光學(xué)測(cè)量
Phasics波前傳感器可對(duì)光學(xué)系統(tǒng)和元器件進(jìn)行透射和反射式測(cè)量,專業(yè)Kaleo軟件可分析PSF,MTF等
光學(xué)測(cè)量 透射式和反射式測(cè)量 |
3.光學(xué)整形:
利用Phasics波前傳感器檢測(cè)到精確的波前畸變信息,反饋給波前校正系統(tǒng)以補(bǔ)償待測(cè)波前的畸變,從而得到目標(biāo)波前相位分布和光束形狀。右圖上為把一束RMS=1.48λ的會(huì)聚光矯正為RMS=0.02λ的準(zhǔn)平面波;右圖下為把分散焦點(diǎn)光斑矯正為準(zhǔn)高斯光束。高頻率大氣湍流自適應(yīng)需要配合高頻波前分析儀。
4.光學(xué)表面測(cè)量:
Phasics的SID4軟件可以直接測(cè)量PtV, RMS, WFE和曲率半徑等,可直接進(jìn)行自我校準(zhǔn),兩次測(cè)量相位作差等。非常方便應(yīng)用于平面球面等形貌測(cè)量。部分測(cè)量光路如右圖所示
5.等離子體測(cè)量
法國(guó)Phasics公司SID4系列等離子體分析儀(Plasma Diagnosis)是一款便攜式、高靈敏度、高精度的等離子體分析儀器。該產(chǎn)品可實(shí)時(shí)檢測(cè)激光產(chǎn)生的等離子體的電子密度、模式及傳播方式。監(jiān)測(cè)等離子體的產(chǎn)生、擴(kuò)散過程,以及等離子體的品質(zhì)因數(shù)。更好地為客戶在噴嘴設(shè)計(jì)、激光脈沖的照度、氣壓、均勻性等方面提供*化的數(shù)據(jù)支持。
附:夏克哈特曼和四波橫向剪切干涉波前分析儀對(duì)比表
| Phasics剪切干涉 | 夏克哈特曼 | 區(qū)別 |
技術(shù) | 四波側(cè)向剪切干涉 | 夏克-哈特曼 | PHASICS SID4是對(duì)夏克-哈特曼技術(shù)的改進(jìn),投放市場(chǎng)時(shí),已經(jīng)申請(qǐng)技術(shù),售出超過500個(gè)探測(cè)器。 |
重建方式 | 傅里葉變換 | 分區(qū)方法(直接數(shù)值積分)或模式法(多項(xiàng)式擬合) | 夏克-哈特曼波前探測(cè)器,以微透鏡單元區(qū)域的平均值來近似。對(duì)于大孔徑的透鏡單元,可能會(huì)增加信號(hào)誤差,在某些情況,產(chǎn)生嚴(yán)重影響。在分區(qū)方法中,邊界條件很重要。 |
光強(qiáng)度 | 由于采用傅里葉變換方法,測(cè)量對(duì)強(qiáng)度變化不敏感 | 由于需要測(cè)量焦點(diǎn)位置,測(cè)量對(duì)強(qiáng)度變化靈敏 | 關(guān)于測(cè)量精度,波前測(cè)量不依賴于光強(qiáng)度水平 |
使用、對(duì)準(zhǔn)方便 | 界面直觀,利用針孔進(jìn)行對(duì)準(zhǔn) | 安裝困難,需要精密的調(diào)節(jié)臺(tái) | SID4 產(chǎn)品使用方便 |
取樣(測(cè)量點(diǎn)) | SID4-HR達(dá)300*400測(cè)量點(diǎn) | 128*128測(cè)量點(diǎn)(微透鏡陣列) | SID4-HR具有很高的分辨率。這使得測(cè)量結(jié)果更可靠,也更穩(wěn)定 |
數(shù)值孔徑 | SID4 HR NA:0.5 | 0.1 | SID4-HR動(dòng)態(tài)范圍更高 |
空間分辨率 | 29.6μm | >100μm | SID4-HR空間分辨率更好 |
靈敏度 | 2nmRMS | 約λ/100 | SID4-HR具有更好的靈敏度 |
上海屹持光電技術(shù)有限公司作為法國(guó)Phasics中國(guó)區(qū)域代理商,*您為提供服務(wù)!
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